氫氧化鋯是一種不溶于水，堿性稍強的兩性氫氧化物，一般采用氧氯化鋯溶解，與氨水或氫氧化鈉混合反應，再通過洗滌純化去除雜質離子，脫水而制得。由于氫氧化**體較細，漿液粘稠，傳統的離心、板框、真空抽濾等處理方法由于精度不足，容易跑料，產品收率低，且勞動強度大，洗滌過程也會產生大量的廢水。

針對粉體、納米粉體傳統洗滌方式存在的不足，成都誠達膜過濾技術有限公司采用新型的無機陶瓷膜分離技術，并成功的將其應用于碳酸鋇、鈦酸鋇、銀粉、氮化硅、氫氧化鉿、氫氧化鋯等納米粉體、超細粉體的洗滌純化、濃縮等工藝上，解決了粉體洗滌過程跑料、人工勞動強度大、廢水量大等關鍵問題。陶瓷膜分離精度 10-1000nm，能很好的截留超細粉體，而透過含雜質離子的水溶液，在此過程中添加純水反復過濾洗滌即可大幅度的脫除漿料中所含雜質離子，從而提高**終產品的純度。與傳統工藝比較，膜技術洗滌過程連續進行，時間短，透過液澄清無粉體透出，且洗滌水量相對于傳統方式可降低至少70%。

如四川某材料研究院的兩套CD-TC30-14X納米粉體洗滌純化膜分離設備，設計用于氫氧化鋯、氫氧化鉿等粉體的洗滌純化，系統變頻在線控制，配備300L攪拌罐，整機316L材質，單套設備可一次性洗脫漿料300L，每天可至少完成2批，洗滌得到的氫氧化鋯純度遠高于用戶**開始的板框洗脫，且廢水量降低約75%。

納米粉體洗滌膜過濾系統為非標設計型設備，需結合用戶物料性狀、產能需求、工藝除雜要求等而量身打造 ，若您也有粉體洗滌純化的技術難題，歡迎致電成都誠達膜過濾技術有限公司，我們將根據您的具體情況，提供針對性的技術解決方案。