出售韓一HVC-2700DA光學(xué)鍍膜機(jī)  電子束蒸發(fā)電鍍機(jī)  鞋標(biāo)真空電鍍膜機(jī) PVC納米鍍膜機(jī)  AR高透膜鍍膜機(jī)

一，明細(xì)介紹：

 **6年 - 2018年

 EB(電子槍) 1GUN.。韓一 12六

 高于源 韓一。(霍爾)

 機(jī)板泵 愛德華EM275

 羅獲系 愛德華EM2600

 深冷 韓國(guó)V-PLUS1000H

 品控 XTC+2個(gè)品控

 阻蒸 1個(gè)

二，鍍膜機(jī)操作步驟

打開總開關(guān),包括冷卻水開關(guān)和機(jī)器開關(guān)。

打開鍍膜機(jī)總開關(guān),樣品旋轉(zhuǎn)開關(guān),升降開關(guān)按鈕。

將玻璃基板至于樣品托中,導(dǎo)電一面向下。

蒸鍍室、預(yù)處理室放氣。

打開蒸鍍室與預(yù)處理室之間的閘板閥(順時(shí)針方向關(guān),逆時(shí)針方向開),推拉桿推至大真空室中,將樣品放到推拉桿上,將推拉桿拉回至預(yù)處理中。關(guān)閉閘板閥(順時(shí)關(guān)閉,逆時(shí)針開)

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三，適用領(lǐng)域

以客戶滿足為主 HVC-2700DA

耐久性

P采取**設(shè)計(jì)技法 在 Chamber 及 Door 防止 Crack, 具備堅(jiān)固的門

**薄膜均勻性及重復(fù)性

按照物質(zhì)分蒸發(fā)特性采用可變修正板** Dome 全體的均勻性, Batch 之間質(zhì)量無變.

簡(jiǎn)便性

不熟練工作人員也會(huì)使用, 可以按使用者的要求來控制項(xiàng)目，顯示出發(fā)生故障時(shí) 原因及解決方案.

提供工藝管理

提供 Process recipe 及 Data Logging，很容易管理工藝和質(zhì)量.

大量生產(chǎn)對(duì)應(yīng)

按照驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行徹底的驗(yàn)收，交付設(shè)備反映了客戶要求事項(xiàng)，安裝后短時(shí)間內(nèi)可以大量生產(chǎn).

一，主要技術(shù)指標(biāo)：

UPS射頻源，精控，單槍，光學(xué)膜厚儀監(jiān)控波長(zhǎng)范圍：400-1100nm，波長(zhǎng)精度：<±1nm， 配置離子源，離子流密度分布均勻; 基底**加熱溫度：300℃。 目前可淀積材料包括：SiO2、TiO2、Ta2O5、Nb2O**l2O3等 蒸發(fā)速率0.**/s-20A/s， 工作真空：5E-6mbar， 氣體（Ar、O2）

五，主要功能：

主要用于可見~短波紅外波段光學(xué)增透膜、高反膜、截止濾光片，窄帶、超窄帶、極窄帶濾光片等光學(xué)薄膜蒸鍍，配備兩把電子槍和等離子體輔助源，一次可蒸鍍多片不同尺寸（1寸、2寸、3寸、4寸、5寸、6寸、8寸、40mm*40mm等）的樣品。

六，真空蒸發(fā)鍍膜原理

1.1 將膜材置于真空鍍膜室內(nèi) ， 通過蒸發(fā)源使其加熱蒸發(fā) 。 當(dāng)蒸發(fā)分子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片間的線尺寸后 ， 蒸發(fā)的粒子從蒸發(fā)源表面上逸出 ， 在飛向基片表面過程中很少受到其他粒子 （ 主要是殘余氣體分子）的碰撞阻礙，可直接到達(dá)基片表面上凝結(jié)而生成薄膜。