三、陽極氧化工藝：
1.本色陽極氧化工藝:
H2SO4 40-45g／L
H3BO3 8-10g
HTL-360 20-30 g/L TEMP: 20 -25℃電流密度 (A/dm2) 2.5 Time: 20-30min
2.硫酸型陽極氧化工藝：
硫酸 (H2SO4 ) 160-200g／L
HTL-350 5-10 g/L
鋁離子：5≥ AL3+<20g／L
TEMP: 8-20 ℃電流密度 (A/dm2) 1-2.5 Time:15-60min
陰極材料：純鋁或鋁錫合金板
陰極面積比陽極面積： 1．5：1
攪拌：壓縮空氣攪拌
電源：直流電
各工藝參數調整，現對影響氧化膜質量的諸參數做如下說明：
(1)硫酸濃度：使用濃度較高的硫酸溶液進行氧化時，初始階段由于氧化膜的生長速度較大，氧化膜的孔隙率高，因此易染色，所以要用硫酸的上限之值。
(2)溫度 ：染淺色控制在 8-13 ℃ 時獲得的氧化膜致密耐磨不易變暗 ，15-20 ℃時 成膜速度快，吸附性能好適合染黑色。
(3)隨著 電流密度的增加，氧化膜的孔隙亦增多，易于染色；電流密度減小，膜的生長速度減小 ，膜層較致密 ，不易染色電流密度**為 1-2A/dm2 。但壓鑄件電流密度不宜過高，起始電壓應小于12v,且需要恒壓處理
(4)時間：染淺色氧化時間為 15-20min，染黑色氧化時間為 45-60min。
(5)雜質 ：一般用濾紙或微孔管過濾機過濾排除。
(6)電解液混濁度：必須注意前處理及清洗 ，并及時過濾。